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更新時間：2024-06-13 
瀏覽次數(shù)：476工業(yè)顯微鏡是在制造半導體、電子元件、液晶顯示器等時用于過程檢查和分析的顯微鏡。
為了便于數(shù)據(jù)分析，大多數(shù)工業(yè)顯微鏡都設(shè)計為允許將數(shù)碼相機或 CCD 中的圖像傳輸?shù)接嬎銠C。
工業(yè)顯微鏡用于半導體、電子元件等工業(yè)產(chǎn)品的制造過程檢查和分析。最常見的工業(yè)顯微鏡是金相顯微鏡，它照射光并利用反射光觀察表面。
金相顯微鏡用于觀察不透明工業(yè)產(chǎn)品的表面，例如陶瓷結(jié)構(gòu)、金屬和合金、零件的拋光表面以及電子元件。此外，它還用于磁頭、液晶和薄膜等產(chǎn)品制造過程中的開發(fā)、分析和檢查。
還可以觀察電路板上的焊點表面和焊縫熔深深度等細節(jié)。也用于金屬加工中鑄造、熱處理、冶金后的評價和分析。
常用作工業(yè)顯微鏡的金相顯微鏡包括從上方觀察樣品的正置顯微鏡和從下方觀察樣品的倒置顯微鏡。正置顯微鏡是一種常見的顯微鏡。將樣品放置在物鏡下方并從物鏡上方觀察。使用倒置顯微鏡時，物鏡的端朝上，使您可以從下方觀察樣品。
在正置和倒置顯微鏡中，光源都位于物鏡內(nèi)部。該光源用光照射樣品表面，并且利用來自樣品表面的反射光來觀察樣品表面的形狀。物鏡和目鏡之間夾有棱鏡或透鏡，放大并觀察從物鏡照射到樣品上并反射的光。放大倍數(shù)約為 50 倍至 1,000 倍。
用作工業(yè)顯微鏡的金相顯微鏡有多種型號，具有多種功能，并且許多型號能夠使用反射照明的明場法、暗場法和微分干涉法。在使用反射照明的暗場方法中，可以看到閃亮的細小劃痕、裂紋、氣孔等，使其適合觀察樣品表面。使用反射輻射的微分干涉測量法可以檢測使用明場方法難以檢測的細微不規(guī)則性，并且經(jīng)常用于檢查過程。
如上所述，工業(yè)顯微鏡包括正置顯微鏡和倒置顯微鏡。
一般來說，許多正置顯微鏡允許您根據(jù)照明方式選擇透射或反射，其優(yōu)點是光學系統(tǒng)易于設(shè)計。
倒置顯微鏡將觀察面朝下放置，易于使觀察面相對于光軸保持水平，常用于冶金領(lǐng)域。
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