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更新時間：2024-04-26 
瀏覽次數(shù)：295抗蝕劑涂敷裝置是將抗蝕劑材料涂敷到基材等目標物體的表面的裝置。
抗蝕劑材料是一種由對光敏感的樹脂制成的電子材料。
抗蝕劑涂布設(shè)備根據(jù)涂布方式可分為旋涂機和噴涂機。前一種類型的旋涂機通常用于抗蝕劑涂覆。旋涂機可形成厚度為1至數(shù)十微米的薄膜，適合于平坦表面的涂覆。噴涂機用于對表面不平整的三維物體進行噴涂。
抗蝕劑涂敷設(shè)備所涂敷的抗蝕劑材料是用于半導體加工的材料。因此，半導體制造工藝中通常會采用抗蝕劑涂覆設(shè)備。
抗蝕劑材料在激光加工等中用作光掩模。盡管可以由操作者手動施加抗蝕劑材料，但是可能難以形成具有均勻膜厚的膜。如果有沒有涂層的地方或者厚度不夠的話，后續(xù)加工就會不成功，質(zhì)量也會出現(xiàn)偏差。
從質(zhì)量控制的角度來看，使用抗蝕劑涂敷裝置均勻地涂敷抗蝕劑材料非常重要。
如上所述，抗蝕劑涂覆設(shè)備的主要類型是旋涂機和噴涂機。旋涂機和噴涂機的涂布方法不同。
旋涂機是一種利用離心力進行涂覆的設(shè)備。將抗蝕劑材料滴到待涂覆的物體上后，該物體高速旋轉(zhuǎn)。這種旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生離心力，使抗蝕劑材料散布到每個角落。
使用旋涂機進行涂布時，抗蝕劑材料的擴散可能會在表面有凹凸的部分停止，因此難以在凹凸嚴重的表面上涂布。在這種情況下，可以使用噴涂機。
噴涂機是采用噴涂方法的設(shè)備。通過噴涂來涂敷抗蝕劑材料。根據(jù)裝置的不同，均勻涂覆的機構(gòu)有多種；有些裝置移動噴嘴來涂覆每個部件，有些裝置在旋轉(zhuǎn)待涂覆物體的同時保持噴嘴固定。
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